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CN
產(chǎn)品技術(shù)
產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用中心
iSparol? 系列卷對卷原子層沉積系統(tǒng)
基于自主研發(fā),將超大空間型ALD 鍍膜技術(shù)與真空卷對卷技術(shù)結(jié)合,開發(fā)大型卷對卷原子層沉積鍍膜平臺。其中平臺集成超大型平面原子層沉積 (ALD) 系統(tǒng),并開發(fā)滿足產(chǎn)業(yè)化量產(chǎn)的成熟工藝材料體系,實現(xiàn)在超大寬幅柔性基材上制備高阻隔膜的整體解決方案。經(jīng)過多年產(chǎn)業(yè)化驗證和裝備升級已經(jīng)迭代到二代產(chǎn)品。并獲得客戶驗收和多臺重復(fù)訂單交付。
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產(chǎn)品特點
適用于各種高分子材料、柔性薄膜電池、柔性器件等柔性基底,例如PET\PEN\PI\EVOH等
1
適用基底尺寸:厚度兼容50~250um,寬幅≤1.5m,常用尺寸卷徑150mm,整卷外徑≤800mm,可客戶定制
2
制備氧化鋁(AlOx)及氧化鋁疊層材料等高質(zhì)量致密氧化物薄膜,實現(xiàn)WVTR≤10—3g/㎡.day
3
適配于大面積柔性襯底實現(xiàn)連續(xù)卷對卷鍍膜,生產(chǎn)節(jié)拍2m/min
4