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CN
產(chǎn)品技術(shù)
泛半導(dǎo)體
iTronix?系列化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
iTronix?系列化學(xué)氣相沉積(CVD)系統(tǒng)采用自主研發(fā)的反應(yīng)腔室和電氣軟件集成化服務(wù),在邏輯、存儲(chǔ)、先進(jìn)封裝、顯示器件等芯片制造領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用,可滿足多種功能性薄膜沉積工藝的開(kāi)發(fā)和應(yīng)用需求。搭載新型平臺(tái)可安裝更多反應(yīng)腔以滿足高產(chǎn)能需求。
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產(chǎn)品特點(diǎn)
高精度壓力調(diào)節(jié)控制技術(shù),提高薄膜階梯覆蓋率
1
可以控制膜的成份和結(jié)構(gòu),滿足多元摻雜工藝需求
2
自主研發(fā)高精度制程邊緣控制技術(shù),減少晶圓去邊,提高晶圓利用率
3
帶ESC多區(qū)加熱陶瓷盤,可以實(shí)現(xiàn)高溫工藝,減少背面沉積,避免等離子體損傷
4
自主設(shè)計(jì)的多區(qū)域吹掃功能,減少顆粒污染,延長(zhǎng)清洗周期
5
多區(qū)域溫度控制設(shè)計(jì),溫度控制精度高,薄膜均勻性好
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