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CN
產(chǎn)品技術
先進封裝
iTronix?系列化學氣相沉積系統(tǒng)
iTronix?系列化學氣相沉積（CVD）系統(tǒng)采用自主研發(fā)的反應腔室和電氣軟件集成化服務，在邏輯、存儲、先進封裝、顯示器件等芯片制造領域具有廣泛應用，可滿足多種功能性薄膜沉積工藝的開發(fā)和應用需求。搭載新型平臺可安裝更多反應腔以滿足高產(chǎn)能需求。
銷售郵箱
產(chǎn)品特點
高精度壓力調(diào)節(jié)控制技術，提高薄膜階梯覆蓋率
1
可以控制膜的成份和結構，滿足多元摻雜工藝需求
2
自主研發(fā)高精度制程邊緣控制技術，減少晶圓去邊，提高晶圓利用率
3
帶ESC多區(qū)加熱陶瓷盤，可以實現(xiàn)高溫工藝，減少背面沉積，避免等離子體損傷
4
自主設計的多區(qū)域吹掃功能，減少顆粒污染，延長清洗周期
5
多區(qū)域溫度控制設計，溫度控制精度高，薄膜均勻性好
6