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CN
產(chǎn)品技術
集成電路
iTomic? HiK系列原子層沉積系統(tǒng)
iTomic? HiK系列原子層沉積系統(tǒng)，適用于客戶制程高介電常數(shù)（High- ?? ）柵氧層、MIM電容器絕緣層、TSV介質(zhì)層等薄膜工藝需求；ALD系列設備憑借原子級別的精確控制、沉積薄膜的高覆蓋率和超薄膜厚的均勻性可為邏輯芯片、存儲芯片提供介質(zhì)層等關鍵工藝解決方案，技術和設備指標達到國內(nèi)一流、國際先進水平。
銷售郵箱
產(chǎn)品特點
12英寸單片熱ALD量產(chǎn)設備（兼容8英寸）
1
采用原創(chuàng)設計的反應腔和源輸送加熱系統(tǒng)，可滿足優(yōu)異的薄膜均勻性和重復性，更適合三維和高深寬比器件結構的薄膜生長
2
薄膜材料：Al?O?、HfO?、HfSiO、SiO?、金屬化等工藝
3
配置有4種獨立的高溫前驅體輸送系統(tǒng)，滿足ALD薄膜多元化摻雜工藝需求
4