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CN
產(chǎn)品技術(shù)
集成電路
iTomic? MW系列批量式原子層沉積系統(tǒng)
iTomic? MW系列批量式原子層沉積系統(tǒng)采用創(chuàng)新的批量型（mini-batch）腔體設(shè)計，可一次處理25片12英寸晶圓，適用于成膜鍍率低，厚度要求高，以及產(chǎn)能要求高的關(guān)鍵工藝及應用。iTomic? MW系列產(chǎn)品利用特有的流場設(shè)計，具有成膜速度快，占地面積小，產(chǎn)能高、使用成本低等優(yōu)勢，為存儲芯片以及Micro-OLED顯示器、MEMS等提供定制化量產(chǎn)的解決方案。
銷售郵箱
產(chǎn)品特點
25片12寸晶圓（兼容8寸晶圓）MW ALD系統(tǒng)，適用于厚膜或生長率較低的工藝需求
1
提供優(yōu)異的薄膜片內(nèi)（WiW）和片間（WtW）均勻性，更好地滿足客戶工藝需求
2
薄膜材料：Al?O?、HfO?、SiO?等
3
與爐管型設(shè)備相比，MW ALD系列在減少顆粒度的同時大大降低了熱過程，避免芯片器件在制程中的熱損傷
4
特別適用于高產(chǎn)能、超高深寬比結(jié)構(gòu)器件的量產(chǎn)化鍍膜工藝
5