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CN
產(chǎn)品技術(shù)
泛半導(dǎo)體
iTomic? Lite系列輕型原子層沉積系統(tǒng)
iTomic? Lite輕型系列原子層沉積系統(tǒng)采用原創(chuàng)設(shè)計(jì)開發(fā)的自動化平臺與模塊化ALD反應(yīng)腔相結(jié)合,以國產(chǎn)化零部件為主導(dǎo),可以按需配置PEALD或Thermal ALD等工藝需求。Lite ALD系列設(shè)備具有強(qiáng)大的兼容性,其硬件配置在保持量產(chǎn)機(jī)型強(qiáng)大功能的前提下,可滿足各類晶圓尺寸(6、8英寸)量產(chǎn)工藝需求,同時(shí)也可滿足客戶高端研發(fā)和新工藝試量產(chǎn)需求。Lite ALD系列可廣泛應(yīng)用于MEMS、光電器件等泛半導(dǎo)體器件領(lǐng)域。
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產(chǎn)品特點(diǎn)
靈活兼容Thermal ALD和PEALD工藝應(yīng)用
1
自由配置半自動或全自動系統(tǒng)
2
薄膜材料:Al?O?、SiO?、TiO?、ZnO、氮化物等
3
滿足6、8英寸晶圓量產(chǎn)工藝需求
4
滿足高端研發(fā)客戶需求及新工藝的開發(fā)和量產(chǎn)
5