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CN
產(chǎn)品技術(shù)
正膜Al?O?
夸父?系列KF20000批量式ALD系統(tǒng)
夸父系列工業(yè)批量型原子層沉積系統(tǒng)采用微導(dǎo)原創(chuàng)的反應(yīng)腔體設(shè)計(jì)和先進(jìn)的薄膜沉積及自動化集成技術(shù),可為高效晶硅太陽能電池表面鈍化提供高質(zhì)量超薄鈍化膜的制備,確保電池光電轉(zhuǎn)換效率的進(jìn)一步提升?;诔晒α慨a(chǎn)機(jī)型的設(shè)計(jì)原理,夸父系列 ALD薄膜鈍化系統(tǒng)是微導(dǎo)納米原創(chuàng)設(shè)計(jì)的第五代產(chǎn)品,代表了光伏行業(yè)國產(chǎn)創(chuàng)新設(shè)備的先進(jìn)技術(shù),在提供超高產(chǎn)能的同時(shí),最大程度降低設(shè)備的運(yùn)營成本,為客戶提供可靠的量產(chǎn)解決方案,引領(lǐng)光伏產(chǎn)業(yè)化高效電池智能化制造。
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產(chǎn)品特點(diǎn)
適用于PERC, PERT, TOPCon, XBC, HJT, Perovskite, Tandem-Cell等高效電池技術(shù)的應(yīng)用
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可制備薄膜包括Al?O?, SiO?, TiO?, ZnO, SnO?, HfO?, ZrO?等
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單腔最大裝片量可達(dá)3360片/批次,兼容M10-M12硅片尺寸,升級切換簡單
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精確實(shí)現(xiàn)原子層級薄膜厚度控制(1-10 nm,可調(diào)),具備優(yōu)異的薄膜厚度均勻性
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獨(dú)立運(yùn)行反應(yīng)腔體,確保最大化設(shè)備運(yùn)行率(>99%)
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提供定制化復(fù)雜納米疊層工藝以及CVD兼容功能
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