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iTomic? PE系列等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)
iTomic? PE系列等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)可根據(jù)不同溫度要求制備氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等薄膜制備工藝及應(yīng)用，通過(guò)精準(zhǔn)快速控制成膜速度、低溫反應(yīng)溫度、材料配比等技術(shù)，完美實(shí)現(xiàn)材料厚度均勻性、膜應(yīng)力，熱過(guò)程，以及階梯覆蓋率等極具挑戰(zhàn)的工藝需求，技術(shù)達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。iTomic? PE系列設(shè)備可為邏輯芯片、存儲(chǔ)芯片、先進(jìn)封裝等提供客制化掩膜層、介質(zhì)層、圖案化等關(guān)鍵工藝解決方案。
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