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關(guān)于微導(dǎo)
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CN
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iTomic? HiK系列原子層沉積系統(tǒng)
iTronix?系列化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
iTomic? MW系列批量式原子層沉積系統(tǒng)
iTomic? PE系列等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)
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iTronix?系列化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
iTomic? MW系列批量式原子層沉積系統(tǒng)
iTomic? PE系列等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)
MEMS
iTomic? HiK系列原子層沉積系統(tǒng)
iTronix?系列化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
iTomic? MW系列批量式原子層沉積系統(tǒng)
iTomic? Lite系列輕型原子層沉積系統(tǒng)
硅基微顯示
iTronix?系列化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
iTomic? MW系列批量式原子層沉積系統(tǒng)
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iTomic? HiK系列原子層沉積系統(tǒng)
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其他
Trancendor?晶圓真空傳輸系統(tǒng)
光伏
硼擴(kuò)散
羲和?系列高溫低壓系統(tǒng)
退火
羲和?系列高溫低壓系統(tǒng)
隧穿氧化/多晶硅沉積
祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系統(tǒng)
祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統(tǒng)
祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統(tǒng)
正膜Al?O?/SiN?
祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系統(tǒng)
祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系統(tǒng)
正膜Al?O?
夸父?系列KF20000批量式ALD系統(tǒng)
背膜SiN?
祝融系列ZR5000×1管式PECVD系統(tǒng)
阻隔封裝
電子傳輸層 SnO?
界面層/封裝層 AIO?
產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用中心
產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用中心
iOptomic 系列原子層沉積系統(tǒng)
iTomic? PE系列等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)
后羿?系列 板式ALD系統(tǒng)
iSparol系列卷對卷ALD系統(tǒng)
iTomic? MW Lite批量輕型系列原子層沉積系統(tǒng)
背膜SiN?
祝融系列ZR5000×1管式PECVD系統(tǒng)
祝融系列ZR5000×1管式PECVD系統(tǒng)突破性解決傳統(tǒng)管式PECVD的產(chǎn)能瓶頸,可與微導(dǎo)納米ALD鈍化技術(shù)無縫對接,確保PERC、TOPCon、XBC等高效電池生產(chǎn)。以先進(jìn)技術(shù)和裝備高度集成,形成高質(zhì)量、高產(chǎn)能、低成本的產(chǎn)業(yè)化量產(chǎn)。
銷售郵箱
產(chǎn)品特點(diǎn)
適用于 PERC, PERT, TOPCon, XBC 等高效電池技術(shù)的應(yīng)用
1
優(yōu)異的溫度和等離子體控制系統(tǒng)與高載片量,輔助搭配 ALD 鈍化薄膜,提升效率與降低生產(chǎn)成本
2
精準(zhǔn)制備 SiNx, SiONx, SiC, SiOx 等復(fù)合鈍化膜,精準(zhǔn)控制各層光學(xué)參數(shù)與厚度
3
優(yōu)異的薄膜厚度均勻性
4
前臺熱線:
0510-81975900
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